硅片厚度对多晶硅太阳电池性能的影响
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GBT 25074-2010太阳能级多晶硅
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2011多晶硅产业回顾
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粒状多晶硅生产概况
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采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD) ,在单晶硅衬底上生长氮化硅(SiN) 薄膜,再对薄膜进行快速热退火处理,研究了在不同温度下SiN 薄膜的退火特性. 通过椭圆偏振光仪测量了薄膜厚度和薄膜的折射率,发现退火后薄膜的厚度下降,折射率升高; 采用准稳态光电导衰减QSSPCD 测少数载流子寿命,发现少子寿命有很大程度的下降. 还研究了SiN 薄膜对多晶硅电池性
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化学腐蚀法制备多晶硅的绒面
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回收四氯化硅化解多晶硅产业瓶颈
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降低多晶硅还原电耗的途径
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多晶硅反应炉和多晶硅的制备方法
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多晶硅硅料技术问答之还原炉
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多晶硅生产中回收氢的净化
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多晶硅太阳能电池
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多晶硅太阳电池表面化学织构工艺
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多晶硅太阳电池绒面和二次扩散吸杂工艺研究
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多晶硅与单晶硅的扩散比较
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